1NM 掃描電遷移粒徑譜儀

產(chǎn)品描述：

使用第二代1-nm粒徑譜儀將您的測(cè)量能力升級(jí)至檢測(cè)極限。30多年來(lái)，TSI的SMPS?粒徑譜儀被廣泛作為測(cè)量亞微米和低納米范圍內(nèi)氣溶膠粒徑分布的標(biāo)準(zhǔn)。用戶通過(guò)儀器和3757型納米增強(qiáng)CPC以及3086型差分靜電遷移分析儀的配合使用，可以以高分辨率和高速度測(cè)量粒徑和數(shù)量濃度，并監(jiān)測(cè)小于1nm的工程和天然氣溶膠粒子的反應(yīng)動(dòng)力學(xué)和新粒子生成。

詳情

1納米SMPS系統(tǒng)結(jié)合了TSI在粒子分級(jí)和計(jì)數(shù)方面的傳統(tǒng)優(yōu)勢(shì)，并采用了能夠測(cè)量小于1納米粒子的新技術(shù)。優(yōu)化后的3086型差分靜電遷移分析儀能夠進(jìn)一步降低了這些微小粒子的擴(kuò)散損失。3757型納米增強(qiáng)儀介于DMA和標(biāo)準(zhǔn)CPC之間，采用二甘醇對(duì)1納米粒子預(yù)生長(zhǎng)，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)CPC檢測(cè)。新的納米增強(qiáng)儀設(shè)計(jì)加強(qiáng)了CPC與納米增強(qiáng)儀的集成性，使系統(tǒng)的設(shè)置和使用更加容易。

研究人員通過(guò)使用這些儀器，可以將粒子研究推向令人興奮的新領(lǐng)域。關(guān)鍵應(yīng)用包括：

大氣研究 -監(jiān)測(cè)新的粒子形成和動(dòng)力學(xué)、云凝聚，并縮小質(zhì)譜儀與常規(guī)粒子粒徑分布測(cè)量之間的差距。非常適合高污染城市中的亞3nm粒子和粒子源研究以及健康影響因素研究

材料科學(xué) - 系統(tǒng)可以可靠的近實(shí)時(shí)反饋監(jiān)測(cè)和表征亞3nm粒子，非常適合基于氣溶膠的工程納米粒子合成、納米粒子功能化、納米分析化學(xué)、反應(yīng)動(dòng)力學(xué)控制和催化劑合成。

1nm SMPS不僅僅是能觀察1nm以上成核的檢測(cè)器，還是全面的粒子光譜儀，能夠以極高的分辨率顯示了這些事件中的粒徑分布情況。

組件的模塊化非常便于用戶根據(jù)測(cè)量需求定制系統(tǒng)：節(jié)省您的時(shí)間和金錢(qián)。如果您已經(jīng)擁有一套配備了3750 型CPC的3938系列SMPS系統(tǒng)，您只需再增加一臺(tái)1NM DMA差分靜電遷移分析儀和納米增強(qiáng)儀，無(wú)需調(diào)整您的分級(jí)器和高級(jí)中和器，且您將免費(fèi)更新到最新版本的AIM軟件

產(chǎn)品應(yīng)用：

?基礎(chǔ)氣溶膠研究

?通過(guò)粒子源（如火焰合成、激光燒蝕、火花產(chǎn)生和成核/凝結(jié)）研究粒子成核和粒子生長(zhǎng)。

?燃燒和發(fā)動(dòng)機(jī)排氣研究（有機(jī)燃料、低于3nm的排放、天然氣發(fā)動(dòng)機(jī)、塑料成型和焊接

?過(guò)濾研究

?吸入或暴露室研究

*健康影響因素研究*功能和優(yōu)點(diǎn)中的介紹基于下列假設(shè)：SMPS光譜儀包含3082型分級(jí)器、1nm DMA差分靜電遷移分析儀、3757型納米增強(qiáng)儀和3750型凝聚核粒子計(jì)數(shù)器等組件。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

?快速獲得粒徑和數(shù)量濃度的高分辨率數(shù)據(jù)

?優(yōu)化使擴(kuò)散損失最小

?1至50nm間>109個(gè)通道

?配合3081A長(zhǎng)DMA差分靜電遷移分析儀使用，可測(cè)量從1nm到1μm 3個(gè)粒徑數(shù)量級(jí)的粒子

?模塊化組件設(shè)計(jì)，可以根據(jù)用戶測(cè)量需求定制，例如單獨(dú)使用1nm CPC等。

?內(nèi)置診斷和自動(dòng)檢測(cè)系統(tǒng)組件，可以獲得可靠和可重復(fù)的測(cè)量數(shù)據(jù)。

?易于安裝和使用的氣溶膠儀器管理器（AIM）軟件。

?多功能的粒子測(cè)量方式：適用于多模樣品。